真空蒸發和濺射這兩種真空物理鍍膜工藝，是迄今在工業領域能夠制備光學薄膜的兩種主要的工藝。它們大規模地應用，實際上是在1930年出現了油擴散泵---機械泵抽氣系統之后。

　　1935年，有人研制出真空蒸發淀積的單層減反射膜。但它的先應用是1945年以后鍍制在眼鏡片上。

　　1938年，美國和歐洲研制出雙層減反射膜，但到1949年才制造出的產品。

　　1965年，研制出寬帶三層減反射系統。在反射膜方面，美國通用電氣公司1937年制造出盞鍍鋁燈。德國同年制成面醫學上用的抗磨蝕硬銠膜。在濾光片方面，德國1939年試驗淀積出金屬—介質薄膜Fabry---Perot型干涉濾光片。

　　在濺射鍍膜領域，大約于1858年，英國和德國的研究者先后于實驗室中發現了濺射現象。該技術經歷了緩慢的發展過程。

　　1955年，Wehner提出高頻濺射技術后，濺射鍍膜發展迅速，成為了一種重要的光學薄膜工藝?，F有兩極濺射、三極濺射、反應濺射、磁控濺射和雙離子濺射等淀積工藝。

　　自50年代以來，光學薄膜主要在鍍膜工藝和計算機輔助設計兩個方面發展迅速。在鍍膜方面，研究和應用了一系列離子基新技術。

　　1953年，德國的Auwarter申請了用反應蒸發鍍光學薄膜的專利，并提出用離子化的氣體增加化學反應性的建議。

　　1964年，Mattox在前人研究工作的基礎上推出離子鍍系統。那時的離子系統在10Pa壓力和2KV的放電電壓下工作，用于在金屬上鍍耐磨和裝飾等用途的鍍層，不適合鍍光學薄膜。后來，研究采用了高頻離子鍍在玻璃等絕緣材料上淀積光學薄膜。70年代以來，研究和應用了離子輔助淀積、反應離子鍍和等離子化學氣相等一系列新技術。它們由于使用了帶能離子，而提供了充分的活化能，增加了表面的反應速度。提高了吸附原子的遷移性，避免形成柱狀顯微結構，從而不同程度地改善了光學薄膜的性能，是光學薄膜制造工藝的研究和發展方向。