真空蒸鍍型：基本概念：在真空環(huán)境中，將材料加熱并鍍到基片上稱為真空蒸鍍，或叫真空鍍膜。蒸鍍是將待成膜的物質置于真空中進行蒸發(fā)或升華，使之在工作或基片表面析出的過程。特點：1.能在金屬、半導體、絕緣體甚至塑料、紙張、織物表面上沉積金屬、半導體、絕緣體、不同成分比的合金、化合物及部分有機聚合物等的鍍膜，其適用范圍之廣是其他方法無法比擬的；2.可以不同的沉積速率。不同的基板溫度和不同的蒸氣分子入射角蒸鍍成膜，因而可得到不同顯微結構和結晶形態(tài)（單晶、多晶或非晶）的鍍膜；3.鍍膜的純度很高；4.易于在線檢測和控制鍍膜的厚度成分。厚度控制精度高可達單分子層量級；5.排出污染物很少且?guī)缀鯖]有，無“三廢”公害。6.防水等級可達IPX8；7.使用范圍廣泛，回報快。缺點：設備體積相對比較大，造價成本相對要高。適用范圍：所有3C數(shù)碼產(chǎn)品（如筆記本、相機等）、服飾、鞋帽、箱包等。招商對象：大型賣場、商超、購物中心等。相關產(chǎn)品：廣告外殼抽真空先進防水設備了解我司更多相關產(chǎn)品信息，歡迎登錄：http://www.szqyfs88.com/